天元航材作為國內具有50余年生產制作工藝沉淀的化工廠家，我們的主營產品有六方氮化硼，具有良好的電絕緣性、導熱性、耐化學腐蝕性和潤滑性，并具有很強的中子吸收能力，幾乎對所有的有機溶劑及腐蝕性化學物質都是相對穩(wěn)定的，本文我們介紹了包括h-BN的合成、性質、新物理、應用和異質結構方面的最新研究進展和發(fā)現。特別強調了h-BN及其異質結構的合成、生長和加工，以及由于h-BN的特殊性質而產生的潛在和新興應用。

h-BN由于其廣泛的應用范圍、奇異的性質和二維體積性質的相關性，已成為二維類中最有前途的材料之一。在過去的十年中，人們進行了廣泛的探索，以建立和理解h-BN的幾個關鍵方面，包括但不限于高質量的h-BN生長、通過結構修飾和異質結構形成對功能特性的可調性，以及開發(fā)這些特性在各種領域的進一步應用。本綜述全面介紹了與匯豐銀行相關的最重要和最新發(fā)展。本綜述特別關注于理解從塊體到二維形式的屬性調制的潛在原因。此外，通過摻雜、功能化、異質結構和納米復合材料的形成對二維 h-BN的這些特性進行調制，徹底改變了h-BN在本綜述中介紹的應用。

h-BN研究的未來及其實際應用關鍵取決于合成工藝的創(chuàng)新，以生產大面積、無缺陷、高質量的h-BN 二維板材。在過去五年中，從兩個方向（自上而下和自下而上）采取了幾種方法，以解決h-BN合成和放大過程中的一些關鍵瓶頸。剝落、熱分解、不同的生長方法、低溫生長等過程都有其優(yōu)缺點，這對于理解特定應用至關重要。與CVD和PVD方法相比，機械和化學剝離是相對較低成本和較不復雜的技術。在這些技術中，機械劈裂提供了質量最好的h-BN薄片，其厚度可以與單層一樣薄，但除了產生較小的薄片尺寸外，還存在產量相對較低的問題，并且在層數上缺乏控制。球磨技術展示了在基底上實現h-BN薄片大覆蓋的潛力，以及通過機械力化學方法功能化h-BN薄片的可能性，但在橫向尺寸方面也有限制：與CVD獲得的尺寸相比，這些尺寸往往較小。球磨還帶來了在h-BN結構中產生無意缺陷的挑戰(zhàn)。

另一方面，與大多數其他去角質技術相比，最新的圖像方法提供了更高的產量、減少的去角質時間和能源消耗，從而顯示出對h-BN薄片商業(yè)生產的一些希望。盡管如此，該技術仍然存在微米尺度內的薄片尺寸問題，這給實現單層結構帶來了挑戰(zhàn)。然而，探索溶劑層相互作用優(yōu)化以合成具有最小厚度和缺陷的大h-BN納米片的化學剝離可能有助于克服這些障礙。CVD技術顯示了生長大面積和高結晶度h-BN的優(yōu)勢。最近，單晶單分子膜已在單晶金屬上成功地在晶圓規(guī)模上合成。迄今為止報道的最高質量的h-BN薄片是在金屬襯底上生長的。然而，當前用于后續(xù)轉移過程的方法通常會降低膜質量并導致污染。此外，大多數工藝的生長溫度通常非常高（>1000℃），這會增加能耗。為了實現CVD過程中的可控生長，需要考慮并仔細調整許多參數，如前體和襯底選擇、前體和金屬溫度、氣體成分及其百分比、反應時間、壓力等。所有這些因素都阻礙了CVD生長h-BN的大規(guī)模生產和廣泛應用。 

在所有的PVD技術中，脈沖激光沉積（PLD）方法顯示出在相對較低的溫度下在非金屬襯底上生長大規(guī)模h-BN的最佳潛力。然而，報道的h-BN晶粒尺寸仍然比CVD生長的小得多。由于襯底在外延生長中起著非常重要的作用，因此應將重點放在與h-BN晶格相似的襯底上，如金剛石，以提高h-BN的結晶度和質量。然而，高溫生長技術受到催化基質、額外轉移過程（通常影響h-BN納米片的質量）和過量熱能的影響，這會阻礙其在高性能器件中的使用。h-BN的性能通常受到界面污染的嚴重影響，這是器件級應用中的另一個主要問題。

盡管過去十年來h-BN的研究取得了驚人的進展，但h-BN的未來仍有很大的創(chuàng)新空間。將實驗和計算相結合的整體方法將為h-BN和h-BN異質結構器件的結構和功能設計的發(fā)展開辟新的機遇。除了對h-BN固有結構、電子和光學特性的調制進行富有洞察力的探索外，還將大大有助于實現這種非凡材料的真正潛力，這種材料在商業(yè)領域的未來應用前景廣闊。

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